Processo Siemens
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Processo Siemens

Nel campo del processo Siemens per la produzione del silicio, offriamo una ricca gamma di prodotti e soluzioni per ottimizzare la qualità di processo. In aggiunta agli elementi in grafite del reattore per la deposizione (CVD), Schunk produce una varietà di componenti per l’unità di conversione. Oltre ai normali materiali in grafite/isolanti e C/C, sono altresì disponibili soluzioni e raffinamenti personalizzati per il cliente.

Vantaggi principali:

  • Precisione ottimale nella produzione di elettrodi in grafite
  • Pulizia ad alta temperatura dei materiali utilizzati
  • Contaminazione residua da boro e fosforo < 1 ppm (ppb < 200)
  • Tecnologia di rivestimento CVD/CVI per strati cristallini ß-SiC
  • Tecnologia CVD/CVI per deposito di carbone pirolitico (PyC) altamente orientato
  • Rivestimento completo, compresi componenti con geometrie complesse
  • Massima purezza e durata prolungata
  • Componenti standard, nonché soluzioni e progettazioni specifiche per il cliente
  • Possibilità di pulizia e CVD fino a D 1700 mm x 2000 mm

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