Siemensverfahren
ดาวน์โหลด

Siemensverfahren

Für den Siemens-Prozess zur Herstellung von Silizium liefern wir ein weites Portfolio an Produkten und Lösungen zur Optimierung der Prozessqualität. Neben den graphitischen Elementen im Abscheidungsreaktor (CVD) stellt Schunk noch eine Vielzahl an Bauteilen für die Konvertierungseinheit her. Außerdem bieten wir neben regulären Graphiten/Isolationswerkstoffen und CFC kundenspezifische Lösungen und Veredelungen an. 

Nutzen Sie diese Vorteile:

  • Höchste Präzision bei der Herstellung von Graphitelektroden
  • Hochtemperatur-Reinigung der eingesetzten Werkstoffe
  • Bor- und Phosphor-Restverunreinigung < 1 ppm (ppb < 200)
  • CVD/CVI-Beschichtungstechnologie für kristalline ß-SiC-Schichten
  • CVD/CVI-Technologie für die Abscheidung von hochorientiertem PyroCarbon (PyC)
  • Umfassende Beschichtung ebenfalls in komplexen Bauteilgeometrien
  • Höchste Reinheit gepaart mit höchster Standzeit
  • Standardbauteilen sowie kundenspezifische Lösungen und Entwicklungen
  • Reinigung und CVD bis D 1700 mm x 2000 mm möglich

Share this content:

ข้อมูลเพิ่มเติม
ความเชี่ยวชาญของ Schunk Carbon Technology

ความเชี่ยวชาญหลักโดยรวมของเรามุ่งสู่เป้าหมายคือความสำเร็จของคุณ ผลประโยชน์จากนวัตกรรมที่มุ่งสู่อนาคต การทำงานโดยให้ความสำคัญกับลูกค้า และมีประสิทธิภาพตั้งแต่เริ่มต้นไปจนถึงการผลิตที่ต่อเนื่อง

เรียนรู้เพิ่มเติม
Schunk Carbon Technology แพร่หลายทั่วโลก

คำว่าโลกาภิวัตน์สำหรับเราแล้วไม่ใช่แค่วลีติดปาก แต่นี่คือโอกาสที่มีในแต่ละวันที่เราจะได้ร่วมมือร่วมใจกับลูกค้าของเราในตลาดโลกให้ประสบความสำเร็จมากยิ่งขึ้น เราจึงประจำอยู่ทุกพื้นที่ทั่วโลก เพื่อคุณ !

สถานที่ตั้งของเรา
งานแสดงสินค้าและงานกิจกรรม

เราจะเข้าร่วมเป็นเจ้าภาพในงานแสดงสินค้าและการประชุมใหญ่ผู้เชี่ยวชาญระหว่างประเทศ และหวังเป็นอย่างยิ่งว่าคุณจะไปพบปะพูดคุยกับเราที่นั่น

ทำการนัดหมาย